半導體產業的基石是芯片,制作芯片的核心材料按照歷史進程分為:第一代半導體材料(大部分為目前廣泛使用的高純度硅),第二代化合物半導體材料(砷化鎵、磷化銦),第三代化合物半導體材料以碳化硅和氮化鎵為代表。
碳化硅是第三代半導體產業發展的重要基礎材料,碳化硅功率器件以其優異的耐高壓、耐高溫、低損耗等性能,能夠有效滿足電力電子系統的高效率、小型化和輕量化要求。
在新能源汽車、光伏發電、軌道交通、智能電網等領域具有明顯優勢。因其優越的物理性能:高禁帶寬度(對應高擊穿電場和高功率密度)、高電導率、高熱導率,有望成為未來最被廣泛使用的制作半導體芯片的基礎材料。
圖表來源:IHS Market
近年來新能源汽車驅動碳化硅行業高速成長,較傳統的燃油汽車相比,新能源汽車半導體元器件功率更大,性能要求更高,用量幾倍于傳統燃油汽車。根據現有技術方案,每輛新能源汽車使用的功率器件價值約700美元到1000美元。
隨著新能源汽車的發展,對功率器件需求量日益增加,成為功率半導體器件新的增長點。使用碳化硅襯底材料,為新能源汽車節省大量成本。
一、碳化硅產業鏈
半導體芯片分為集成電路和分立器件,但不論是集成電路還是分立器件,其基本結構都可劃分為“襯底-外延-器件”結構。
碳化硅產業鏈也可分為三個環節:分別是上游襯底,中游外延片和下游器件制造。
圖表來源:中信證券
二、碳化硅上游 - 襯底
碳化硅在半導體中存在的主要形式是作為襯底材料。碳化硅晶片作為半導體襯底材料,長晶難度大,技術壁壘高,毛利率可達50%左右。已經過外延生長、器件制造等環節,可制成碳化硅基功率器件和微波射頻器件。晶片尺寸越大,對應晶體的生長與加工技術難度越大。
碳化硅晶片產業鏈:
圖表來源:天科合達招股說明書
襯底常用Lely法制造,國際主流采用6英寸晶圓,正向8英寸晶圓過渡;國內襯底以4英寸為主,主要用于10A以下小電流產品。全球碳化硅市場呈現寡頭壟斷局面,歐美日企業領先美國全球獨大,全球SiC產量的70%~80%來自美國公司。海外碳化硅單晶襯底企業主要有Cree、DowCorning、SiCrystal、II-VI、新日鐵住金、Norstel等。其中CREE、II-VI等國際龍頭企業已開始投資建設8英寸碳化硅晶片生產線。
國內企業也在積極研發和探索碳化硅器件的產業化,已經形成相對完整的碳化硅產業鏈體系。中國企業在單晶襯底方面以4英寸為主,目前已經開發出了6英寸導電性SiC襯底和高純半絕緣SiC襯底。
以天科合達和山東天岳為主的SiC晶片廠商發展速度較快,市占率提升明顯。三安光電在SiC方面也在深度布局。山東天岳、天科合達、河北同光、中科節能均已完成6英寸襯底的研發,中電科裝備研制出6英寸半絕緣襯底。華潤微擁有3條6英寸產線和一條正在建設的12英寸產線,并擁有國內首條實現商用量產的6英寸碳化硅晶圓生產線。
露笑科技2020年引進碳化硅重磅研發團隊并聯合合肥政府共同投資碳化硅。
三、碳化硅中游 - 外延
外延常用PECVD法制造。國外外延片企業主要有DowCorning、II-VI、Norstel、CREE、羅姆、三菱電機、英飛凌等;器件方面相關主要企業包括英飛凌、CREE、羅姆、意法半導體等。國內從事外延片生長的企業包括廈門瀚天天成和東莞天域半導體等;從事碳化硅器件設計制造的企業包括泰科天潤、華潤微、綠能芯創、上海詹芯、基本半導體、中國中車等。
同時從事外延生長和器件制作的企業包括中電科五十五所、中電科十三所和三安集成等。外延片方面,中國瀚天天成、東莞天域半導體、國民天成均可供應4-6英寸外延片。模塊方面有斯達半導體、比亞迪電子、中車時代電氣等公司。
四、碳化硅下游 - 器件
下游器件的制造效率越高、單位成本越低。器件領域國際上600-1700V碳化硅SBD、MOSFET都已量產,Cree已開始布局8英寸產線,國內企業碳化硅MOSFET還有待突破,產線在向6英寸過渡。碳化硅器件領域代表性的企業中,目前來看在國際上技術比較領先的是美國的Cree,其覆蓋了整個碳化硅產業鏈的上下游(襯底-外延-器件),具有核心的技術。下游碳化硅器件市場,美國Cree占據最大市場份額,達26%,其次為羅姆和英飛凌,分別占據21%和16%的市場份額。英飛凌已經推出了采用轉模封裝的1200V碳化硅(SiC)集成功率模塊(IPM),并大規模推出了SiC解決方案。國內廠商主要有器件:泰科天潤、瀚薪、揚杰科技、中電55所、中電13所、科能芯、中車時代電氣等;模組:嘉興斯達、河南森源、常州武進科華、中車時代電氣目前碳化硅市場處于起步階段。
碳化硅功率器件產業鏈公司梳理:
資料來源:銀河證券
Yole預計2025年碳化硅射頻器件全球市場規模可達250億美元,2023年碳化硅功率器件全球市場規模可達14億美元。在未來的10年內,碳化硅器件有望大范圍地應用于工業及電動汽車領域。
資料來源:Yole, 中信建投
五、碳化硅應用領域
目前碳化硅(SiC)半導體仍處于發展初期,晶圓生長過程中易出現材料的基面位錯,以致碳化硅器件可靠性下降。
另一方面,晶圓生長難度導致碳化硅材料價格昂貴,預計想要大規模得到應用仍需一段時期的技術改進。
汽車應用領域,碳化硅器件替代硅器件是確定的發展趨勢。碳化硅功率器件的應用領域在持續的拓展。
特斯拉Model3是第一個集成全SiC功率模塊的車企,主要采購意法半導體的650V碳化硅功率器件,特斯拉逆變器由24個1-in-1功率模塊組成,這些模塊組裝在針翅式散熱器上。比亞迪車規級的IGBT已經走到5代,碳化硅Mosfet已經走到3代,第4代正在開發當中,目前在規劃自建產線。若如期實現,比亞迪將繼續維持國內三電技術領先的地位,并且在續航表現上與其他國內車企拉開一大截。
5G基站方面,對碳化硅襯底也有較大需求。
根據Yole和CREE預測,受益5G的普及與5G基站的建設,碳化硅基氮化鎵外延功率器件市場規模將從2018年6.45億美金增長到2024年的20億美金,年均復合增速達20.76%,2027年市場規模有望達到35億美金。
當前國內電子行業處于成長期,正朝著核心技術含量和附加值更高的環節邁進,部分產品性能已經能夠達到國際先進水平。電子行業作為新一代信息技術中的核心組成部分,在國家更為重視科技發展的大背景下,有望進一步獲得政策和資金的大力支持。
隨著政策不斷扶持和資金助力,國內電子企業有望在高技術含量和高附加值環節實現更多技術突破,加速國產化替代進程,產業鏈整體具備廣闊的成長空間。
來源:樂晴智庫精選